第114章 退役时代(四) (第5/5页)
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在极其困难的条件下,经过艰苦努力,徐端颐团队不负众望,在1971年研制出第一台光刻机和分步重复照相机,并投入大规模生产,供应全国半导体行业使用,此成果于1978年获得全国科技大会奖。
后来,又陆续开发出更先进的“分步投影光刻机”和“自动对准分步投影光刻机”,90年,经过国外同行专家评测,技术水平接近了国外同类产品;
然后,国外放开了同类设备的出口限制。
徐教授研发的新型光刻机没有了订单,也就失去了生存空间,多年来的努力和心血付诸东流。
禹天自然不能任由历史重演!
天衍研究院接手了光刻机的研发项目,如今,徐教授和他的研发团队成为天衍研究院的核心研发团队之一,项目研发资金更加充足,实验环境更好;
他想做的远不止一个光刻机,一块芯片在封装前,会经历薄膜沉淀、光刻、蚀刻、清洗等多项工艺,每一步都需要特定的加工设备与原材料,这些都在他的考虑中,只是限于目前的人力、财力短缺,暂时还在规划中。
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